К 2029 году литейный завод Samsung вернет к использованию 1,4-нм техпроцесс.

На конференции 2026 года по литографии следующего поколения + нанесению рисунков (NGL 2026) компания заявила, что будет придерживаться 2-нм технологического процесса в течение трех лет, прежде чем в 2029 году перейти на 1,4-нм технологический процесс.

TSMC объявила о готовности к производству своего первого после 2-нм техпроцесса – 1,6-нм техпроцесса A16 - во втором полугодии 2026 года.

Когда в 2029 году Samsung перейдет на свой первый после 2 нм техпроцесс - 1,4 нм техпроцесс, – она не будет использовать аппарат EUV с высокой концентрацией NA.

“Мы хотели применить технологию EUV с высоким содержанием NA для массового производства на таких узлах, как 2 нм и 1,4 нм, но технология все еще требует дальнейшего совершенствования”, - сказал Чанг Мин Парк, вице-президент по технологиям Samsung Electronics, на выставке NGL 2026. “Мы считаем, что технология EUV с высоким содержанием NA станет необходимой для A10 и ниже, и мы ведем совместную разработку с различными партнерами”.

Работая над своим проектом Terafab, Илон Маск пришел к выводу, что High-NA обеспечивает: “Половина чипа в два раза дешевле, при относительно небольшом выигрыше”.

Это связано с тем, что инструменты с высоким содержанием NA стоят в два раза дороже, чем инструменты с низким содержанием NA, обеспечивают лишь незначительный прирост плотности и имеют меньшее поле обзора, что может привести к необходимости сшивания более крупных стружек штампом, что может повлиять на производительность.

Смотрите весь наш контент от Samsung.